Fraunhofer-Geschäftsbereich Reinigung
Der Fraunhofer-Geschäftsbereich Reinigung stellt eine Vielzahl unterschiedlicher Reinigungstechnologien zur Verfügung, die bedarfsgerecht für industrielle Reinigung ausgewählt, angepasst und eingesetzt werden. Die Reinigungstechnologien umfassen
- nasschemische Reinigungsverfahren,
- mechanischen Verfahren,
- CO2-Strahlen,
- Druckluftstrahlen mit festen Strahlmitteln,
- Wasserstrahlen,
- Plasma-Reinigungsverfahren,
- Laserstrahlreinigung,
- Elektronenstrahlprozesse
Die angebotenen Reinigungstechnologien ermöglichen eine schonende Feinstreinigung bei partikulärer und filmischer Verunreinigung bis hin zur Entfernung von Alt-, Stör- oder Funktionsschichten.
Das Teilespektrum, das durch den Fraunhofer-Geschäftsbereich Reinigung angesprochen wird, reicht von hochempfindlichen Teilen für die Chipindustrie bis hin zu sehr massiven Teilen aus der Umformtechnik. Die Fraunhofer Reinigung kann für eine Vielzahl von Reinigungstechniken die Prozesse optimieren und wirtschaftlicher gestalten und somit entscheidend zur Konkurrenzfähigkeit durch verbesserte Wertschöpfung der beauftragten Unternehmen beitragen.